Mirabella Press粉末基礎10 g / 0.4盎司

這種特殊的配方是輕便的，並包含軟焦點，反射成分，可降低細紋，疤痕和太陽損壞的外觀。

雲母、二氧化矽、尼龍 12、氮化硼、辛酸/癸酸甘油三酯、辛基十二烷基硬脂酰硬脂酸酯、硬脂酸鋅、苯氧乙醇、辛二醇、棕櫚酸視黃酯、抗壞血酸棕櫚酸酯、生育酚乙酸酯、乙基己基甘油、西蒙得木籽油、乙烯/丙烯酸共聚物。

可能含有 (+/-)：二氧化鈦 (CI 77891)、氧化鐵 (CI 77491、CI 77492、CI 77499)、錳紫 (CI 77742)。

由於供應情況，成分可能略有不同。