CHI インフラ テクスチャー デュアル ヘア スプレー

再生成可能な優れたスタイルメモリを備えた複数のテクスチャを作成できます。プラスに帯電したシルク分子が髪の自然な構造に絡み合い、強度と弾力性を高め、潤いと輝きを向上させます。速乾性のヘアスプレーは、リフト、動き、質感、コントロールを与えます。 作業用または仕上げ用スプレーとして最適です。

利点

• 驚くほど軽く、シルクのような輝きをもたらします
• あらゆる髪質に適しています
• イオンおよびカチオン水和インターリンクテクノロジーを採用

変性アルコール、ヒドロフルオロカーボン 152a、アクア/水/Eau、AMP-アクリレートコポリマー、ポリウレタン-14、VA/クロトネート/ネオデカン酸ビニルコポリマー、ビスアミノPEG/PPG-41/3アミノエチルPG-プロピルジメチコン、パンテノール、プロピレングリコール、アルクティウムラッパ根エキス、トウキンセンカ花エキス、カミツレ花エキス、桂皮エキス、スギナ葉/茎エキス、ゼラニウム・マクラタム（クレーンズビル）エキス、ヒッポファエ・ラムノイデスエキス、ハマナス・ルプルス（ホップ）エキス、クロクルミ殻エキス、ラレアディバリカータエキス、メリッサオフィシナリス葉エキス、ロスマリヌスオフィシナリス（ローズマリー）葉エキス、サルビアオフィシナリス（セージ）葉エキス、シンフィツムオフィシナール葉エキス、尋常性胸腺（タイム）エキス、イラクサエキス、ユッカシジゲラ根エキス、C15-19アルカン、アミノメチルプロパノール、香料（パルファム）、安息香酸ベンジル、ブチルフェニルメチルプロピオン酸、シトロネロール、クマリン、ゲラニオール、ヘキシルシンナマル、リナロール

濡れた髪に均等にスプレーするとサポートとホールドが得られます。乾いた髪に缶を12インチ離して髪に均等に霧吹きしてください。サーマル スタイルの場合は、均一にスプレーし、CHI ツールを使用してさまざまなスタイルに対応します。